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Freitag, 22 August 2014 00:00

teknek MWCn

Die neue Version der Bahnreinigung MWCn ist speziell für den Einsatz in schmalbahnigen Maschinen entwickelt. Mit den kompakten Abmaßen findet das System auch in beengten Maschinen Platz. Dabei kann die Einbaulage frei gewählt werden.

Durch den, auf Wunsch, doppelseitigen Aufbau eignet sich die MWCn besonders für Anwendung in Etikettendruck, Hologramm Folie, printed electronics, Beschichtung, Kaschierung, Rollenschneider und vielen mehr.

Durch den Einsatz der speziellen teknek Reinigungswalzen werden trockene, aufliegende Partikel bis zu einer Größe bis zu 1µm, bei Arbeitsbreiten von 150-430mm. Durch den Einsatz des optionalen Ionisationsystems wird eine erneute Staubanziehung sicher vermieden.

Freigegeben in Berührende Entstaubung
Freitag, 22 August 2014 00:00

teknek SLn

Die neue Generation der SLn Bahnreinigungseinheit markiert die Einstiegsversion für die effiziente berührende Bahnreinigung. Das schlanke Design bietet die Möglichkeit das System auch in beengten Platzverhältnissen zu installieren, sowohl einseitig als auch beidseitig.

Dieses System bietet sich besonders für Laboranlagen, Digitaldruckmaschinen, Verpackungsmaschinen, Beutelschweissmaschinen und viele andere diskontinuierlichen Maschinentypen.

Auch für dieses Bahnreinigungssystem sind alle teknek-Walzenkombinationen einsetzbar. Durch den durchdachten Aufbau kann die SLn in jeder Einbaulage eingesetzt werden. Durch die Erweiterung mit einem optionalen Ionisationssystem ergibt sich ein komplettes System mit kleinen Maßen.

Freigegeben in Berührende Entstaubung

Seit über 35 Jahren ist teknek als sehr erfolgreicher Hersteller von Bahnreinigungssystemen im Markt und hat sich mit einem speziellen Bahnreinigungsverfahren etabliert. Die Systeme funktionieren ähnlich wie eine Fuselrolle für die Industrielleanwendung.

Die die Bahn berührenden Elastomer-Haftwalzennehmen Staubpartikel vom Substrat auf und übergeben sie an eine klebende Adhesivrolle. Ist die Adhesivrolle gesättigt, wird die oberste Lage abgezogen und die Reinigung kann fortgeführt werden.

 

Was sich auf den ersten Blick einfach liest, ist auf den zweiten Blick mit sehr viel Wissen um die Oberflächenphysik und Materialchemie verbunden. Denn für eine wirklich wirksame Reinigungseinrichtung bedarf es sehr tiefen Wissens um die Oberflächeneffekte die dafür sorgen, dass Partikel festgehalten werden und wie die Elastomerwalzen-Oberfläche gestaltet sein muss, um auch kleinste Partikel auf nehmen zu können. Hier spielen Punkte wie Materialhärt, Oberflächenstruktur und Materialauswahl die entscheidende Rolle.
Und weil das Ziel ist, dass die zu reinigende Oberfläche später wirklich sauber ist und nicht durch andere Stoffe kontaminiert wurde, muss man sich der chemikalischen Zusammenhänge bewusst sein. Das bedeutet, die eingesetzten Elastomerwalzen dürfen nichts an die Oberfläche abgeben oder mit der Oberfläche reagieren. Sie muss ideal mit der Adhesivrolle zusammenspielen und eine möglichst lange Standzeit aufweisen.
All diese Punkte wurden in vielen Jahren erarbeitet und mit hohen Entwicklungsaufwand in Produkte umgesetzt. So werden alle Produkte im Haus von eigenen Entwicklern mit physikalischen und chemischem Hintergrund untersucht, entwickelt und selbst produziert.

Freigegeben in Entstaubung

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